硅基化学样品中杂质元素的ICP-MS测定及干扰消除策略
Journal: Geological and Mineral Surveying and Mapping DOI: 10.12238/gmsm.v7i12.2047
Abstract
硅基材料作为现代半导体工业的核心,其纯度直接关系到电子器件的性能与可靠性。因此,精确测定硅基化学样品中的微量杂质元素对于材料质量控制至关重要。电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)技术以其高灵敏度、宽动态范围和多元素同时检测能力,成为硅基材料中杂质元素分析的首选方法。本文综述了ICP-MS在硅基化学样品杂质元素分析中的应用现状,重点讨论了样品前处理技术、仪器操作条件优化、干扰效应识别及消除策略,旨在为提升硅基材料杂质分析的准确性和效率提供理论指导和实践参考。
Keywords
硅基化学样品;ICP-MS;干扰消除
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[1] 吴世芳.地质矿物样品中硅酸盐的化学分析[J].现代盐化工,2024,51(1):4.
[2] 杨万彪,傅明,陈新焕,等.ICP-AES法测定工业硅中10种杂质元素[J].冶金分析,2003,(1):4.
[3] 吴世芳.地质矿物样品中硅酸盐的化学分析[J].现代盐化工,2024,51(1):11.
[2] 杨万彪,傅明,陈新焕,等.ICP-AES法测定工业硅中10种杂质元素[J].冶金分析,2003,(1):4.
[3] 吴世芳.地质矿物样品中硅酸盐的化学分析[J].现代盐化工,2024,51(1):11.
Copyright © 2024 陈彩珊, 王明芳

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